MBE法和HVPE法成长GaN光学性质比力
2013-08-05
利用反射光谱和光致发光谱,对选取氢化物气相表延法(HVPE)和分子束表延法(MBE)成长GaN样品的光学性质进行了钻研。由反射光谱得出样品的膜厚和禁带宽,同时也说了然HVPE法成长GaN的速度快于MBE法。而通过分歧积分功夫下的光致发光谱的分析,能够看出MBE造备样品中没有显著的黄带发光景象,并且带边发光峰光强比HVPE样品强,初步结论是MBE比HVPE造备样品质量好。