中国科学院光电技术钻研所真空/深紫表镀膜课题组在真空紫表反射滤光片造备方面获得进展，通过光谱反演技术获取光学薄膜资料在真空紫表波段的光学常数，进而优化真空紫表反射滤光膜膜系设计，并使用热蒸发真空镀膜工艺造备出高机能的真空紫表反射滤光片。

　　极光在真空紫表波段的辉光发射可提供诸如极光总能量、极光特点粒子种类和特点粒子能量等沉要信息，使得极光光谱成像成为天体物理钻研的沉要课题。目前，科研人员对真空紫表波段的极光光谱成像（UVI）钻研重要蕴含氧原子发射线（130.4和135.6nm）和氮分子发射带（140-160和160-180nm）。为了获取极光总能量和上述各类特点离子能量火急必要高机能的真空紫表光学滤光片。由于所有的光学薄膜资料在真空紫表波段均拥有极大的吸收损耗，常用的透射式光学滤光片不成取，使得反射式光学滤光片成为UVI系统的首选。

　　以氧原子发射线光谱成像为例，必要造备出一种R135.6nm/R130.4nm足够高的反射滤光片。国表Zukic等钻研人员首先提出选取p结构多层膜设计，优化真空紫表反射滤光片的光谱机能。但是，p结构多层膜设计中存在大量厚度极薄的膜层，增长了真空镀膜的造备难度。此表，光学薄膜资料在真空紫表波段的光学常数正确获取与否，也将显著地影响反射滤光片的最终光谱机能。

该课题组钻研人员通过光谱反演技术正确获取薄膜光学常数，并限度反射滤光膜膜系中薄层厚度，优化反射滤光膜膜系设计，通过热蒸发真空镀膜工艺造备出理论设计和实测光谱数据一致性优良的真空紫表反射滤光片。实测0°和45°入射角下的反射滤光膜，其R135.6nm/R130.4nm比值别离为92.7和20.6，远优于国表造备的真空紫表反射滤光片。有关成就颁发在Appl. Opt. (Appl. Opt. 54(35), 10498-10503, 2015)上。

　　光电地点真空紫表反射滤光片造备方面获得进展