在真空容器中或在隔板对面通过光线时使用的光学仪器用窗口，这些光学窗口的资料随使用波长的分歧而分歧，由于分歧资料存在各自的光谱和资料优弊端，在针对分歧的利用环境下请确认其个性后使用，下面我们为各人整顿了一个数据表，方便各人使用，同时也为各人介绍各类常见类型及特殊类型的光学窗口资料供各人进建意识！

K9(BK7) 玻璃是常见的硼硅酸盐玻璃，透射领域覆盖350nm~2100nm紫表到中红表波段，它的同质性高，气泡、杂质含量低，可直接作为透射光学用资料。由于其化学机能不变，硬度较高，可用于造作各类可见光到近红表的光学元件,如平面窗口、透镜、棱镜等。这些元件宽泛利用于光电子、微波技术等领域。

（K9(BK7) 玻璃曲线图）

超白玻璃，又称浮法玻璃，只需切割一下，不用进行成形和研磨加工，工艺单一，价值便宜，作为最常见的光学基材，极度适合作为防尘防污蹬酌途的基板，也可作为镀反射膜、增透膜或介质膜等的基片。

（超白玻璃曲线图）

石英窗口：石英玻璃资料通常分为JGS1、JGS2、以及 JGS3 三品类别，JGS1通常用于紫表可见光波段，资料不含气泡和杂质。JGS2 重要用于可见光和近红表波段的窗口片和镀膜基底。JGS3 为低羟基资料，可削减红表区域的吸收带，被宽泛利用于红表波段,用于半导体配件资料，光导纤维造作辅料,OH-含量通常在 120-260ppm。

（石英玻璃曲线图）

高硼硅：硼硅玻璃是利用玻璃在高温状态下导电的个性，通过在玻璃内部加热来实现玻璃溶解，经先进出产工艺加工而成。常用来作高温环境使用的窗口。高硼硅玻璃曲线在紫表区肇始端（<300nm）透射率很低，在~320nm左近急剧上升至可见光区，可见光区（400-700nm）维持高而平展（>90%），近红表区（700-2500nm）缓慢降落，在~2800nm (2.8μm) 出现第一个强吸收谷（O-H吸收），在~4300nm (4.3μm) 出现最深最强的吸收谷（Si-O/B-O伸缩振动吸收），在~9300nm (9.3μm) 左近出现另一个强吸收谷（Si-O弯曲振动），吸收谷之间的透射率较低。

（高硼硅波长曲线）

CaF?氟化钙：氟化钙(CaF)是一种立方系单晶资料，可用于真空深紫表到红表传输，在 0.25um-8um 之间的透过率大于 90%，拥有低吸收和高危险阈值，是准分子激光常用的光学元件。

（氟化钙波长曲线）

BaF?氟化钡：氟化钡晶体(BaF,)拥有优良的光学透过机能,在 0.15um-14.5um的光谱领域内，能够用作紫表和红表光学窗口。同时,又拥有良好的闪动机能，成为高能物理与核物理、核医学等领域中沉要的晶体资料。

（氟化钡曲线图）

MgF?氟化镁:氟化镁晶体(MgF)，熔点为 1255℃，硬度高，机械机能好，化学机能不变，不易潮解和侵蚀，光学机能优，在真空紫表波段拥有较高的透过率(120nm 透过率仍在 50% 以上)，透过领域为 0.12-9um，极度适合作真空紫表至红表波段的光学窗口资料，另表氟化镁晶体还拥有双折射效应，可用作偏振元件。

（氟化镁曲线图）

LiF氟化锂：氟化锂晶体(LF)拥有优良的光学透过机能，在0.11um-7.5um 的光谱领域内，能够用作紫表和红表光学窗口。同时,又拥有良好的闪动机能，成为高能物理与核物理、核医学等领域中沉要的晶体资料。

（氟化锂曲线图）

Zns 硫化锌：硫化锌 (ZnS)是用于远红表波段一种很沉要的光学品体,可进行急剧热压成型
；喑粱蚧康耐腹饬煊蛭1um-14um，高透光率，低吸收。多光谱级通过热等静压工艺改进了中红表、可见光的透过率，硫化锌资料具备肯定的抗激光能力，同时有着极度强的抗环境能力。在化学性质上是惰性资料，拥有非吸湿性并且纯度高，理论上极度致密且易于进行机加工。

（硫化锌曲线图）

Znse硒化锌：硒化锌 (ZnSe)是一种黄色通明的多品资料，因其在 10.6um 波段处拥有极低的吸收系数而成为大功率的二氧化碳激光器首选光学资料。由于其优异的光学机能而被宽泛用作高清澈前视红表系统窗口、透镜和棱镜。此表在其整个透光波段领域内，也是在分歧光学系统中普遍使用的资料。 

（硒化锌曲线图）

把稳：接触强酸会产生有毒的硒化氢，不要浸入到盐酸或硫酸的溶液中。高能量激光光束聚在表表时，热分化会产生有毒气体，由于激光热量的剧烈传导会导致 ZnSe 败坏，产生大量的气体和粉尘，把稳绝对不要徒手接触透镜，不要吸入所产生的蒸汽或粉尘。且无镀膜的平面窗口由于正面和背面都存在反射，所以透过率会产生 30% 左右的损失。

Ge锗片：作为半导体的锗晶体在 2um-14um 波段有极好的透过机能，能够用作为中远红表线的光学元件使用。由于 1.5um 以下的波长不能透过，还能够作为红表线透过滤光片使用。也可作为各类尝试用的的锗基板使用，锗窗口有金属光泽，可见光被反射及吸收，但不透过。锗窗口由于表表存在反射损失，所以透过率约为 42%左右，经过镀膜后可显著提高透过率。现阶段下锗作为当前国度严格管控的一种资料，其价值也在逐步走高，且出口和内部使用已经需经过审核！

（锗曲线图）

硅片：硅（Si）窗口片的透过领域是 1.2um-8um，重要用于 6um 以内的红表窗口片和光学滤光片的基片。由于该资料导热机能好密度低，也是造作激光反射镜的常用资料，重要用于 PVD/CVD 镀膜做衬底用作XRD(X射线行射分析)、SEM(扫描电镜)、AFM(原子力显微镜)、FTR 红表、荧光光谱等分析测试基底;同步辐射尝试样品载体;分子東表延成长的基底:半导体光刻工艺等，硅窗口有金属光泽，可见光被反射及吸收，但不透过，由于表表存在反射损失，所以透过率约为 53%左右。

（硅曲线图）

Al?O?蓝宝石：蓝宝石 (ALO,)透过领域为 0.2-5.5um,是一种机能优良的红表光学窗口和基片资料,耐高温且硬度高,仅次于金刚石,且耐酸碱侵蚀。蓝宝石基片可用于半导体工业中的表延片，用于造作 LED 等。紫表光照射到蓝宝石晶体时，有时会产生荧光
；通例情况下，蓝宝石没有蒸镀增透膜其透过率约为 85%。

（蓝宝石曲线图）

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